電子工業(yè)中使用的氣體氮（通常指高純度氮?dú)?，?9.999%以上）在多個(gè)環(huán)節(jié)中起著重要作用，： 惰性保護(hù) ：在半導(dǎo)體制造、液晶顯示器（LCD）制造等過(guò)程中，用于防止氧化和雜質(zhì)污染。 清洗工藝 ：用于設(shè)備或晶圓的清洗，去除殘留物質(zhì)。 載氣 ：在氣相色譜、質(zhì)譜分析等檢測(cè)過(guò)程中作為載氣使用。 一、氮?dú)庠陔娮庸I(yè)中的檢測(cè)需求 由于氮?dú)獾募兌葘?duì)電子產(chǎn)品的質(zhì)量有直接影響，因此需要對(duì)以下指標(biāo)進(jìn)行檢測(cè)： | 檢測(cè)項(xiàng)目 | 說(shuō)明 | | | | | 純度 | 一般要求為99.999%（5N）或更高，需檢測(cè)氧、氫、甲 、二氧化碳等雜質(zhì) | | 含水量 | 需要控制在ppm級(jí)別以下，避免水汽影響設(shè)備或產(chǎn)品 | | 雜質(zhì)氣體 | 如CO、CO?、CH?、H?、O?等，需通過(guò)GC（氣相色譜）、FTIR（紅外光譜）等手段檢測(cè) | | 微粒含量 | 在某些應(yīng)用中，需要檢測(cè)微粒數(shù)量和大小 | 二、常用檢測(cè)方法

1. 氣相色譜法（GC） 可同時(shí)檢測(cè)多種氣體雜質(zhì)（如O?、H?、CO、CO?、CH?等） 適用于高純氣體的痕量分析 常用檢測(cè)器：TCD（熱導(dǎo)檢測(cè)器）、FID（火焰離子化檢測(cè)器）、ECD（電子捕獲檢測(cè)器）

2. 2. 質(zhì)譜法（MS） 用于檢測(cè)低濃度雜質(zhì)氣體 可與GC聯(lián)用（GC MS），實(shí)現(xiàn)定性和定量分析

3. 3. 紅外光譜法（FTIR） 適用于檢測(cè)CO?、H?O、CH?等分子氣體 非破壞性、快速檢測(cè)

4. 4. 露點(diǎn)儀 用于測(cè)量氣體中的水分含量（以露點(diǎn)溫度表示）

5. 5. 激光吸收光譜（TDLAS） 實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)，適用于連續(xù)過(guò)程控制 對(duì)O?、CO、CH?等有高靈敏度