中國化學機械拋光(CMP)技術(shù)行業(yè)現(xiàn)狀調(diào)研與投資發(fā)展趨勢研究報告2024-2030年
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[報告編號] 519121
[出版日期] 2024年1月
[出版機構(gòu)] 產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟研究院
[交付方式] 電子版或特快專遞
[報告價格] 紙質(zhì)版:6500元 電子版:6800元 紙質(zhì)版+電子版:7000元
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章 化學機械拋光（CMP）技術(shù)相關(guān)概述
1.1 CMP技術(shù)概述
1.1.1 CMP技術(shù)概念
1.1.2 CMP工作原理
1.1.3 CMP材料類型
1.2 CMP設備應用領(lǐng)域分析
1.2.1 硅片制造領(lǐng)域
1.2.2 集成電路領(lǐng)域
1.2.3 封裝領(lǐng)域
第二章 2021-2023年中國化學機械拋光（CMP）技術(shù)發(fā)展環(huán)境
2.1 政策環(huán)境
2.1.1 行業(yè)相關(guān)支持政策
2.1.2 應用示范指導目錄
2.1.3 原材料工業(yè)“三品”實施方案
2.2 經(jīng)濟環(huán)境
2.2.1 經(jīng)濟形勢
2.2.2 國內(nèi)經(jīng)濟運行
2.2.3 工業(yè)經(jīng)濟運行
2.2.4 宏觀經(jīng)濟展望
2.3 社會環(huán)境
2.3.1 人口結(jié)構(gòu)狀況
2.3.2 居民收入水平
2.3.3 居民消費結(jié)構(gòu)
2.4 技術(shù)環(huán)境
2.4.1 CMP技術(shù)發(fā)展優(yōu)勢
2.4.2 CMP技術(shù)發(fā)展水平
2.4.3 CMP專利申請數(shù)量
2.4.4 CMP專利地域分布
2.4.5 CMP專利競爭格局
2.4.6 CMP專利分析
第三章 2021-2023年中國CMP拋光材料行業(yè)發(fā)展狀況
3.1 半導體材料行業(yè)發(fā)展分析
3.1.1 半導體材料主要細分產(chǎn)品
3.1.2 半導體材料行業(yè)發(fā)展歷程
3.1.3 半導體材料行業(yè)發(fā)展規(guī)模
3.1.4 半導體材料市場構(gòu)成分析
3.1.5 半導體材料行業(yè)發(fā)展措施
3.1.6 半導體材料行業(yè)發(fā)展前景
3.2 CMP拋光材料行業(yè)概述
3.2.1 拋光材料組成
3.2.2 拋光材料應用
3.2.3 行業(yè)技術(shù)要求
3.2.4 行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈條
3.3 CMP拋光材料市場發(fā)展分析
3.3.1 市場發(fā)展
3.3.2 行業(yè)發(fā)展歷程
3.3.3 發(fā)展
3.3.4 市場結(jié)構(gòu)分布
3.3.5 行業(yè)壁壘分析
3.4 CMP拋光液市場發(fā)展分析
3.4.1 CMP拋光液主要成分
3.4.2 CMP拋光液主要類型
3.4.3 CMP拋光液行業(yè)發(fā)展規(guī)模
3.4.4 CMP拋光液行業(yè)競爭格局
3.4.5 CMP拋光液行業(yè)發(fā)展機遇
3.4.6 CMP拋光液行業(yè)進入壁壘
3.5 CMP拋光墊市場發(fā)展分析
3.5.1 CMP拋光墊主要類別
3.5.2 CMP拋光墊主要作用
3.5.3 CMP拋光墊市場需求分析
3.5.4 CMP拋光墊行業(yè)市場規(guī)模
3.5.5 CMP拋光墊市場銷售均價
3.5.6 CMP拋光墊行業(yè)競爭格局
3.5.7 CMP拋光墊國產(chǎn)替代進展
3.6 CMP拋光材料行業(yè)制約因素
3.6.1 技術(shù)封鎖阻礙發(fā)展
3.6.2 下游認證壁壘高
3.6.3 人才緊缺限制
第四章 2021-2023年中國CMP設備行業(yè)發(fā)展狀況
4.1 半導體設備行業(yè)發(fā)展情況
4.1.1 半導體設備相關(guān)介紹
4.1.2 半導體設備政策發(fā)布
4.1.3 半導體設備市場規(guī)模
4.1.4 半導體設備市場結(jié)構(gòu)
4.1.5 半導體設備競爭格局
4.1.6 半導體設備國產(chǎn)化分析
4.1.7 半導體設備投融資分析
4.1.8 半導體設備發(fā)展趨勢分析
4.2 CMP設備行業(yè)發(fā)展情況
4.2.1 CMP設備市場規(guī)模
4.2.2 CMP設備區(qū)域分布
4.2.3 CMP設備企業(yè)格局
4.3 中國CMP設備行業(yè)發(fā)展情況
4.3.1 CMP設備主要構(gòu)成
4.3.2 CMP設備應用場景
4.3.3 CMP設備市場規(guī)模
4.3.4 CMP設備貿(mào)易規(guī)模
4.3.5 CMP設備主要企業(yè)
4.4 CMP設備行業(yè)投資風險
4.4.1 市場競爭風險
4.4.2 技術(shù)創(chuàng)新風險
4.4.3 技術(shù)迭代風險
4.4.4 客戶集中風險
4.4.5 政策變動風險
第五章 2021-2023年化學機械拋光（CMP）技術(shù)應用領(lǐng)域發(fā)展分析——集成電路制造行業(yè)
5.1 集成電路制造業(yè)概述
5.1.1 集成電路制造基本概念
5.1.2 集成電路制造工藝流程
5.1.3 集成電路制造驅(qū)動因素
5.1.4 集成電路制造業(yè)重要性
5.2 集成電路制造業(yè)發(fā)展分析
5.2.1 集成電路市場規(guī)模
5.2.2 集成電路市場結(jié)構(gòu)
5.2.3 集成電路區(qū)域分布
5.2.4 集成電路企業(yè)格局
5.2.5 晶圓制造市場分析
5.3 中國集成電路制造業(yè)發(fā)展分析
5.3.1 集成電路制造市場規(guī)模
5.3.2 集成電路制造區(qū)域布局
5.3.3 集成電路制造設備發(fā)展
5.3.4 集成電路制造行業(yè)壁壘
5.3.5 集成電路制造發(fā)展機遇
5.4 晶圓代工業(yè)市場運行分析
5.4.1 晶圓代工市場規(guī)模
5.4.2 晶圓代工新建工廠
5.4.3 晶圓代工競爭格局
5.4.4 中國晶圓代工市場規(guī)模
5.4.5 中國晶圓代工國際地位
5.4.6 晶圓代工行業(yè)技術(shù)趨勢
第六章 2021-2023年國外化學機械拋光（CMP）技術(shù)行業(yè)主要企業(yè)經(jīng)營情況
6.1 美國應用材料（Applied Materials, Inc.）
6.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
6.1.2 2021財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.1.3 2022財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.1.4 2023財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.2 荏原株式會社
6.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
6.2.2 2021年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.2.3 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.2.4 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.3 卡博特公司
6.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
6.3.2 2021財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.3.3 2022財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.3.4 2023財年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.4 陶氏公司
6.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
6.4.2 2021年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.4.3 2022年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
6.4.4 2023年企業(yè)經(jīng)營狀況分析
第七章 2021-2023年國內(nèi)化學機械拋光（CMP）技術(shù)行業(yè)主要企業(yè)經(jīng)營情況
7.1 華海清科股份有限公司
7.1.1 企業(yè)發(fā)展概況
7.1.2 企業(yè)產(chǎn)品布局
7.1.3 經(jīng)營效益分析
7.1.4 企業(yè)營收結(jié)構(gòu)
7.1.5 業(yè)務經(jīng)營分析
7.1.6 財務狀況分析
7.1.7 企業(yè)項目投資
7.1.8 企業(yè)技術(shù)水平
7.1.9 核心競爭力分析
7.1.10 公司發(fā)展戰(zhàn)略
7.1.11 未來前景展望
7.2 湖北鼎龍控股股份有限公司
7.2.1 企業(yè)發(fā)展概況
7.2.2 企業(yè)產(chǎn)品布局
7.2.3 經(jīng)營效益分析
7.2.4 企業(yè)營收結(jié)構(gòu)
7.2.5 業(yè)務經(jīng)營分析
7.2.6 財務狀況分析
7.2.7 企業(yè)技術(shù)水平
7.2.8 企業(yè)項目投資
7.2.9 核心競爭力分析
7.2.10 公司發(fā)展戰(zhàn)略
7.2.11 未來前景展望
7.3 安集微電子科技（上海）股份有限公司
7.3.1 企業(yè)發(fā)展概況
7.3.2 企業(yè)主要產(chǎn)品
7.3.3 產(chǎn)品產(chǎn)量規(guī)模
7.3.4 經(jīng)營效益分析
7.3.5 企業(yè)營收結(jié)構(gòu)
7.3.6 業(yè)務經(jīng)營分析
7.3.7 財務狀況分析
7.3.8 在研項目進展
7.3.9 項目投資動態(tài)
7.3.10 核心競爭力分析
7.3.11 公司發(fā)展戰(zhàn)略
7.3.12 未來前景展望
7.4 北京晶亦精微科技股份有限公司
7.4.1 企業(yè)發(fā)展概況
7.4.2 企業(yè)競爭優(yōu)勢
7.4.3 企業(yè)競爭劣勢
7.4.4 企業(yè)主要產(chǎn)品
7.4.5 產(chǎn)品演變歷程
7.4.6 企業(yè)營收規(guī)模
7.4.7 企業(yè)營收結(jié)構(gòu)
7.4.8 企業(yè)發(fā)展規(guī)劃
第八章 化學機械拋光（CMP）技術(shù)行業(yè)項目投資案例
8.1 寧波安集化學機械拋光液建設項目
8.1.1 項目基本情況
8.1.2 項目投資必要性
8.1.3 項目投資可行性
8.1.4 項目投資概算
8.1.5 項目建設期限
8.1.6 項目經(jīng)濟效益
8.2 華海清科化學機械拋光機產(chǎn)業(yè)化項目
8.2.1 項目基本情況
8.2.2 項目投資價值
8.2.3 項目投資概算
8.2.4 項目效益分析
8.3 晶亦精微半導體裝備項目
8.3.1 半導體裝備研發(fā)項目
8.3.2 半導體裝備工藝提升及產(chǎn)業(yè)化項目
8.3.3 半導體裝備研發(fā)與制造中心建設項目
第九章  2024-2030年中國化學機械拋光（CMP）技術(shù)行業(yè)發(fā)展趨勢及展望
9.1 CMP拋光材料行業(yè)發(fā)展趨勢分析
9.1.1 行業(yè)發(fā)展前景
9.1.2 市場發(fā)展機遇
9.1.3 行業(yè)發(fā)展趨勢
9.2 CMP設備行業(yè)發(fā)展趨勢分析
9.2.1 行業(yè)發(fā)展前景
9.2.2 行業(yè)發(fā)展趨勢
9.2.3 模塊升級趨勢
9.3  2024-2030年中國CMP技術(shù)行業(yè)預測分析