拋光機的主要配件
拋光機主要是安裝在拋光機上的護(hù)墊護(hù)墊與磨料或拋光劑進(jìn)行精光研磨\拋光操作聯(lián)合作用

高速拋光機轉(zhuǎn)速分類中速拋光機轉(zhuǎn)速三高速和低速拋光機轉(zhuǎn)速為1750- 3000r /mAn轉(zhuǎn)速可調(diào)中速拋光機轉(zhuǎn)速為1 200 r/雨1 600 r/雨轉(zhuǎn)速可調(diào)低速拋光機轉(zhuǎn)速為1 200 r/分轉(zhuǎn)速可調(diào)

拋光機操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到大的拋光速率以便盡快除去磨光時產(chǎn)生的損傷層同時也要使拋光損傷層不會影響終觀察到的組織

解決這個矛盾的好的辦法就是把拋光分為兩個階段進(jìn)行粗拋目的是去除磨光損傷層這一階段應(yīng)具有大的拋光速率粗拋形成的表層損傷是次要的考慮不過也應(yīng)當(dāng)盡可能小其次是精拋或稱終拋其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷

精拋時轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)提高拋光時間以拋掉粗拋的損傷層為宜精拋后磨面明亮如鏡在顯微鏡明視場條件下看不到劃痕

但在相襯照明條件下則仍可見到磨痕拋光機拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)已逐步引起有關(guān)的重視國內(nèi)外在拋光機的性能上作了大量的研究工作研究出不少新機型新一代的拋光設(shè)備