電子束蒸發(fā)鍍膜設備：此設備多數應用于各種化合物及金屬鍍料；可鍍制多層精密光學膜，如AR膜、長波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、漸變膜系等。已經廣泛應用在手機玻璃蓋板、攝像頭、眼鏡片、光學鏡頭、游泳鏡、滑雪防護鏡、PET膜片、PMMA、光變磁性薄膜、防偽、化妝品等多種產品，有這樣需要的人們可以認證這個鍍膜設備。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機主要應用范圍很廣。低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉至指向2區(qū)段測量位置。當高壓真空表“5”內指針逆時針移動超過6.7Pa時，開工件旋轉鈕開關，鐘罩內被鍍件PVDF膜轉動。

真空鍍膜技術所使用的原材料非常廣泛，主要有單質元素、化合物、無機材料或有機材料等。真空鍍膜技術主要有氣相生成法、氧化法、擴散法、電鍍法、離子注入法等。其中，氣相生成法又可分為物理氣相沉積法（PVD）、化學氣相沉積法（CVD）和放電聚合法等。真空鍍膜技術只有通過真空鍍膜設備才能實現，根據真空鍍膜技術的不同，大致可分為PVD鍍膜設備、CVD鍍膜設備、磁控濺射鍍膜設備等。