金剛石拋光液是利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過(guò)程中保持高切削效率的同時(shí)不易對(duì)工件產(chǎn)生劃傷，它主要用于蘭寶石襯底、光學(xué)晶體、硬質(zhì)玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領(lǐng)域的研磨和拋光。單晶金剛石拋光液具有良好的切削力，加工成本相對(duì)較低，它被廣泛應(yīng)用于超硬材料的研磨拋光。納米金剛石拋光液是利用納米金剛石球形狀和細(xì)粒度粉體能達(dá)到的拋光效果，不僅具有良好的分散穩(wěn)定性，還能保持長(zhǎng)時(shí)間不沉降，并且粉體在分散液中能不發(fā)生團(tuán)聚，它主要用于硬質(zhì)材料的拋光過(guò)程，可使被拋表面粗糙度低于0.2nm。

眾所周知，金相試樣制備過(guò)程中所使用的金剛石產(chǎn)品，大多數(shù)使用金剛石懸浮溶液，當(dāng)遇到易嵌入金剛石顆粒的樣品時(shí)，則選用金剛石拋光膏。 大多數(shù)材料的研磨拋光都使用水基的金剛石拋光液。對(duì)水敏感的材料，應(yīng)選用油基拋光液或拋光膏，使用油基拋光液，清洗上會(huì)稍微麻煩一些。

金剛石拋光劑所用的金剛石微粉多為人造金剛石，其由C原子構(gòu)成，其中的C原子都以共價(jià)鍵結(jié)合，原子排列的基本規(guī)律是每一個(gè)C原子的周圍都有4個(gè)按照正四面體分布的C原子。這些C原子交錯(cuò)整齊地排列成四面體結(jié)構(gòu)，每個(gè)C原子都與其他4個(gè)C原子直接緊密連接，形成牢固的結(jié)晶體，因而特別堅(jiān)硬（自然界中硬物質(zhì)）。其硬度可達(dá)莫氏硬度10級(jí)，顯微硬度比剛玉（即Al2O3）高150倍，具有的耐磨性，超過(guò)剛玉90倍。因此金剛石拋光劑可以用來(lái)拋光非常堅(jiān)硬的材料如硬質(zhì)合金、陶瓷等，這是氧化鋁等拋光劑所不能及的。

金剛石拋光劑多以金剛石拋光懸浮液、金剛石拋光膏和金剛石噴霧劑供貨。其常用粒度有15μm、9μm、6μm、3μm和1μm，使用時(shí)可遵循下道拋光顆粒尺寸為上道拋光顆粒的1/3規(guī)則。其中15μm（相當(dāng)于P1200砂紙）一般用來(lái)代替較細(xì)砂紙的研磨。一般金屬材料在研磨至P1200砂紙后可直接用3μm金剛石進(jìn)行拋光。

金剛石拋光劑使用注意事項(xiàng)：

1、高可燃性

2、遠(yuǎn)何類型的貨源，不要吸煙

3、產(chǎn)品屬壓力包裝，不得置于溫度50℃及太陽(yáng)直射的位置

4、無(wú)論是否為空瓶，都不得破壞或燃燒容器

5、不得向明火或灼熱的物體噴射本產(chǎn)品

金剛石拋光劑廣泛應(yīng)用于寶石、玻璃、陶瓷、硬質(zhì)合金及淬火鋼材的高光亮度研磨拋光。用于金相拋光時(shí)，更顯其的，經(jīng)研磨拋光后的試樣更真實(shí)地顯示其金相組織。不同的材料研磨拋光可選用不同粒度的產(chǎn)品。用于拋磨金相試樣中鑄鐵中石墨，鋼鐵中夾雜，鋼鐵中氧化層、滲碳層、涂層時(shí)能更真實(shí)地顯示其金相。

使用方法:
1.使用前拋光織物需要用水浸透，避免摩擦過(guò)程中發(fā)熱;
2.初次使用時(shí)應(yīng)搖勻再噴涂;初次噴涂時(shí)，應(yīng)延長(zhǎng)噴涂時(shí)間
3.新織物噴灑時(shí)間相應(yīng)延長(zhǎng)，以使織物的磨削力更好

金剛石拋光劑采用的金剛石微粉，以介質(zhì)與助劑，融物理與化學(xué)作用于一體研制而成；粒度分布均勻，顆粒形貌呈球形八面體，故研磨效果好、不易產(chǎn)生劃痕；硬度高，刃口尖銳鋒利，對(duì)硬軟材料都有良好的研磨作用，只產(chǎn)生研磨作用而無(wú)滾壓，不產(chǎn)生擾亂層；主要用于機(jī)械研磨、拋光硬質(zhì)合金、合金鋼、高碳鋼等高硬材料制件以及金相和巖相試樣的精研等。

多晶金剛石由許多細(xì)小的晶體組成，它們的晶棱提供了大量的刀刃。在試樣制備過(guò)程中，這些晶棱有利于磨削，并在試樣表面只留下淺的劃痕。單晶金剛石是塊狀的，只有幾條晶棱。這種金剛石磨削的同時(shí)，試樣表面的劃痕樣式更加反復(fù)無(wú)常。對(duì)試樣的要求越高，就越選擇P型金剛石,但是M類型金剛石更適合多用途磨拋。