石英粉是用純石英(天然石英或熔融石英)經破碎、揀選、清洗、酸處理、高溫熔化、中碎、細磨、分級、除鐵等多道工序加工而成的符合使用要求的粉體。石英粉分干法和水法兩種生產方式,各種常規(guī)規(guī)格:100M,150M,200M,325M,400M,600M,1500M及2000M(M為目數)。另外也可按客戶要求加工異型規(guī)格,要求粒度分布的一般也可加工。石英粉不分等級,只分規(guī)格。因其具備白度高,無雜質、鐵量低等特點,故應用范圍廣。
用途:制造玻璃,耐火材料(爐料),冶煉硅鐵,涂料,橡膠填料,冶金熔劑,陶瓷,研磨材料,金屬表面處理等方面,在建筑中利用其有很強的抗酸性介質浸蝕能力,制取耐酸混凝土及耐酸砂漿。
石英粉分干法和水法兩種生產方式:
1、干法生產石英粉,主要設備有磕石機、粉碎機、振動篩等。其工藝流程為石英石礦料經過磕石機加工成較小石料,石料再經過粉碎機加工砂粒,然后經過振動篩篩分,在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵,然后分裝完畢入庫。
2、水法生產石英粉,主要設備有磕石機、石碾、烤房、振動篩、水路系統(tǒng)等。
其工藝流程大致如下:石英石礦料經過磕石機加工成較小石料,石料再經過石碾碾壓成砂粒,碾壓時不停的加水,水帶著砂粒流入沉淀池內,再把沉淀池內的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒,然后再經過振動篩篩分,在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵,然后分裝完畢入庫。
干法生產的石英粉分為普通石英粉、精制石英粉二種等級。因石英石礦料從山上開采下來的時候,本身帶有黃褐色的表皮。挑選出較小的石英石礦料直接破碎篩分的產品稱普通石英粉,表觀呈現(xiàn)黃褐色與白色相間,其優(yōu)點是價格便宜,缺點是雜質較多,故多用于建筑行業(yè).挑選出大的礦料,經過人工去除表面黃褐色外皮,再加工而成的就是精制石英粉了,其表觀呈現(xiàn)白色,亮晶晶,如同白砂糖一樣。因加工過程費時費料,故價位較高。
水法生產的石英粉分為普通石英粉和精制石英粉。把較小的石英石礦料加工成普通石英粉,把大的石英石礦料加工成精制石英粉。與干法石英粉相比,水法石英粉因在生產過程,較少產生設備鐵以及用水沖走雜質,如含鐵量及雜質都少于干法石英粉,但因其加工較為費工費料,故價位較高。
石英粉不分等級,只分規(guī)格。因其具備白度高,無雜質、鐵量低等特點,故應用范圍廣.
不規(guī)則狀石英粉用顯微鏡來看其實呈現(xiàn)多角型,是將石英粉直接研磨的結果;球狀石英粉是將不規(guī)則狀石英粉置于接近融點的高溫,讓原來存在不平整的邊邊角角融化,然后再降溫冷卻,就可以得到球狀石英粉。
優(yōu)點:
1、顯著提高抗壓、抗折、抗?jié)B、防腐、抗沖擊及耐磨性能,顯著延長砼的使用壽命,特別是在氯鹽污染侵蝕、硫酸鹽侵蝕、高濕度等惡劣環(huán)境下,可使砼的耐久性提高一倍甚至數倍。
2、具有保水、防止離析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。具有約5倍水泥的功效,在普通砼和低水泥澆注料中應用可降低成本。提高耐久性?!?br />
3、提高澆注型耐火材料的致密性,在與Al2O3并存時,更易生成莫來石相,使其高溫強度,抗熱振性增強?! ?br />
從而被廣泛應用于光學玻璃、電子封裝、電氣絕緣、陶瓷、油漆涂料、精密鑄造、硅橡膠、醫(yī)藥、化裝品、電子元器件以及超大規(guī)模集成電路、移動通訊、手提電腦、航空航天等生產領域。
硅微粉是一種、無味、的無機非金屬材料。由于它具備耐溫性好、耐酸堿腐蝕、導熱系數高、高絕緣、低膨脹、化學性能穩(wěn)定、硬度大等優(yōu)良的性能,被廣泛用于化工、電子、集成電路(IC)、電器、塑料、涂料、油漆、橡膠、等領域。隨著高技術領域的迅猛發(fā)展,硅微粉亦將步入新的歷史發(fā)展時期。
微硅粉的細度:硅灰中細度小于1微米的占80%以上,平均粒徑在0.1~0.3微米,比表面積為:20~28m2/g。其細度和比表面積約為水泥的80~100倍,粉煤灰的50~70倍。石英粉常用規(guī)格為400目,800目,1000目,1500目及2000目。
微硅粉的生產方法主要有:
,三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中,與通入的干燥氯化氫氣體在280~330℃有氯化亞銅催化劑存在下進行氯化反應,反應氣體經旋風分離除去雜質,再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體,經粗餾塔蒸餾和冷凝,除去高沸物和低沸物,再經精餾塔蒸餾和冷凝,得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個“9”以上、雜質含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內,用超純氫氣作還原劑,在1050~1100℃還原成硅,并以硅芯棒為載體,沉積而得多晶硅成品。
第二,用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%~98%,被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結晶,用酸除去雜質,得到純度為99.7%~99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅,還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式,再經蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅,則需要進行進一步的提純處理。
第三, 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合,用1000~3000kVA開式電弧爐,加熱到1900℃左右進行還原。