在 2.45 GHz 頻率下產(chǎn)生的微波具有產(chǎn)生等離子體的特優(yōu)勢(shì)。在這個(gè)頻率下，微波可以有效地與氣體的電子共振，從而提高電離效率。此外，2.45 GHz 頻率允許使用相對(duì)較小的腔體尺寸，這對(duì)于緊湊型等離子體源的設(shè)計(jì)非常有用。 微波等離子體源具有多種應(yīng)用，包括：

材料處理：微波等離子體源可用于表面處理、薄膜沉積和蝕刻工藝。它們可以幫助在各種材料上沉積薄膜，或改變材料的表面特性。

電子器件制造：ECR等離子體源在半導(dǎo)體工業(yè)中，微波等離子體源可用于清潔晶圓、蝕刻硅片和沉積薄膜層。其結(jié)構(gòu)小巧，可以多個(gè)等離子體源組成等離子墻，或者不同形狀以使之便于不同情況的工程應(yīng)用。

照明：微波等離子體源可用于制造高強(qiáng)度放電燈，如用于投影儀或汽車前燈的金屬鹵化物燈。 醫(yī)學(xué)應(yīng)用：微波等離子體源可用于醫(yī)療消毒和手術(shù)中的組織電凝。
Sirem微波等離子體源源被設(shè)計(jì)成立或遠(yuǎn)程操作、良好的電力穩(wěn)定性和顯著低電力損耗。 詳細(xì)和交互式的界面使它們易于操作、使用，可以通過RS232、RS485, ETHERNET 或現(xiàn)場(chǎng)總線連接進(jìn)行模擬控制，如CanOpen、Modbus、Profibus等。
等離子體源是指產(chǎn)生和維持等離子體的設(shè)備或裝置。等離子體是由高能粒子擊打原子或分子而產(chǎn)生電離的氣態(tài)物質(zhì)，通常包括正離子、電子等帶電粒子。等離子體源可以是利用高溫或高壓來產(chǎn)生等離子體，也可以是利用激光、微波等輻射來產(chǎn)生。在科學(xué)研究、工業(yè)應(yīng)用和醫(yī)療領(lǐng)域中，等離子體源被廣泛應(yīng)用于材料加工、離子注入、核聚變等方面。常見的等離子體源有等離子體切割機(jī)、等離子體切割焊接機(jī)、等離子體清洗機(jī)等。