拋光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到大的拋光速率以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響終觀察到的組織即不會(huì)造成假組織前者要求使用較粗的磨料以有較大的拋光速率來去除磨光的損傷層但拋光損傷層也較深后者要求使用細(xì)的材料使拋光損傷層較淺但拋光速率低

解決這個(gè)矛盾的好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行粗拋目的是去除磨光損傷層這一階段應(yīng)具有大的拋光速率粗拋形成的表層損傷是次要的考慮不過也應(yīng)當(dāng)盡可能小其次是精拋或稱終拋其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷

使拋光損傷減到小拋光機(jī)拋光時(shí)試樣磨面與拋光盤應(yīng)平行并均勻地輕壓在拋光盤上注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動(dòng)以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添粉懸浮液