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美國光刻膠pg去膠液半導(dǎo)體芯片光刻膠剝離液

更新時(shí)間：2025-10-02 [舉報(bào)]

廈門光刻膠    美國光刻膠

?性?通用型去膠產(chǎn)品專為半導(dǎo)體制造設(shè)計(jì)
?腐蝕性?相對較高極低，特別針對金屬和半導(dǎo)體襯底
?緩蝕體系?通常不含含有復(fù)合緩蝕劑體系
?應(yīng)用場景?一般工業(yè)去膠芯片制造
?成本?較低較高


標(biāo)簽：美國光刻膠光刻膠
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