隨著鍍膜技術(shù)的快速增長，各種類型的真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響，現(xiàn)在我們就濺控濺射鍍膜機來看看造成不均勻的因素有哪些。
光學(xué)薄膜快貼技術(shù)這種顛覆性的技術(shù)意味著小型車房和店內(nèi)車房更容易入門鍍膜行業(yè)。復(fù)雜且一體化的多層薄膜只需輕松幾步即可附著到鏡片上 - 完全取代了傳統(tǒng)鍍膜工藝。
PVD鍍膜涂層工藝中效果好的為離子鍍膜方式；此方法是利用電弧撞擊靶材，使靶材原子被激發(fā)出來，與反應(yīng)性氣體反應(yīng)，形成化合物沉積于工件表面的一種技術(shù)。爐內(nèi)運行至高真空后，通入惰性氣體，加偏壓造成氬離子(Ar+)，及帶負電的電子(e-)，帶正電的氬離子會撞向通入偏壓為負極的基板底材，來清潔工件表面；之后再通入反應(yīng)氣體，在靶材和基板底材間產(chǎn)生電漿，進行鍍膜作業(yè)。此一方式成膜速度快、密著性較佳，多用于切削刀具鍍膜涂層處理。
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