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鎳合金靶材高純鎳釩合金靶材NiV純度9995濺射鍍膜材料

更新時(shí)間0:2022-12-13 信息編號:e82rk7gfg59857 舉報(bào)維權(quán)
鎳合金靶材高純鎳釩合金靶材NiV純度9995濺射鍍膜材料
鎳合金靶材高純鎳釩合金靶材NiV純度9995濺射鍍膜材料
鎳合金靶材高純鎳釩合金靶材NiV純度9995濺射鍍膜材料
鎳合金靶材高純鎳釩合金靶材NiV純度9995濺射鍍膜材料
供應(yīng)商 北京瑞弛高科技有限公司 店鋪
認(rèn)證
報(bào)價(jià) 人民幣 300.00元每件
關(guān)鍵詞 NiV靶材,鎳合金靶材,純度99.95鎳釩,濺射鍍膜材料
所在地 北京交大東路46號301A,301B
孟凡睿
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹

鎳釩靶材

名稱:鎳釩(NiV)靶材 Nickel Vanadium Target

純度:99.9%,99.95%, 99.99%

形狀:平面靶,柱狀靶,電弧靶,異型靶

 

在集成電路的膜層中一般用金做導(dǎo)電層,但金與晶圓(硅)容易生成AuSi低熔點(diǎn)化合物,導(dǎo)致金與硅界面粘接不牢固,因此在金和硅晶圓的表面之間增加了粘接層。一般用純鎳做粘接層,但鎳膜層和金膜導(dǎo)電層之間也會擴(kuò)散,因此還需要阻擋層,來防止金膜層和鎳膜層之間的擴(kuò)散。阻擋層常常采用熔點(diǎn)高的金屬,還要承受較大的電流密度,高屬釩便能滿足該要求。所以在集成電路領(lǐng)域會用到鎳濺射靶材、釩濺射靶材、金濺射靶材等。鎳釩濺射靶材是在鎳熔體中加入釩,制成鎳釩合金靶材,該合金鐵磁性較弱,更有利于磁控濺射,可同時(shí)實(shí)現(xiàn)鎳濺射靶材和釩濺射靶材的優(yōu)點(diǎn),一次完成鎳層(粘接層)和釩層(阻擋層)的制備。由于鎳釩合金無磁性,***應(yīng)用在電子及信息產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域。


我們生產(chǎn)的Ni-7V wt%靶材規(guī)格值

純度

主成分(wt%)

雜質(zhì)元素(≤ppm)

雜質(zhì)之和(≤ppm)







V

Fe

Al

Si

C

N

O

S



99.99

7±0.5

20

30

20

100

30

100

20

100

99.95

7±0.5

200

200

200

100

100

200

50

500

99.9

7±0.5

300

300

300

100

100

200

50

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所屬分類:有色金屬制品/鎳合金

本文鏈接:http://www.elilidesigns.com/sell/info-e82rk7gfg59857.html

關(guān)于北京瑞弛高科技有限公司

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主營產(chǎn)品: 濺射靶材,高熵合金,科研合金,高純金屬

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